Chaleur Studio

Product 02 · Photography / Darkroom

EMBERLITE

暗房放大機曝光控制系統

透過旋鈕與按鈕控制放大機曝光,接續化學計時,並保存每次放相的設定與記錄。

實體操作放相記錄本地網路 Web Console

01 / Print records

每一次放相,
留下條件與記錄

每次放相可搭配焦距、光圈、濾鏡、相紙種類與廠牌等資料,並以記錄保留工作條件。透過 Web Console 查閱既有設定,便於比對不同曝光條件,或回看先前的放相工作。

EMBERLITE Web Console — 放相記錄
Web Console 保留曝光時間、濾鏡、光圈與相紙等放相條件,方便查閱既有工作記錄。Web Console 實機畫面查看原尺寸圖片 ↗

02 / Spectral data

從光譜資料,
配置數位燈具

搭配外部感測器及適用的數位燈具,可使用光譜採樣、基準校準、RGBW 擬合及實測校正,建立供數位曝光使用的設定。結果依連接設備與校正資料而定。

EMBERLITE Web Console — 光譜詳情
查看既有光譜記錄、RGBW 設定與推估曲線;未有量測資料的欄位保留 N/A。擷取時感測器離線,此圖不代表本次量測或校正成功。Web Console 實機畫面查看原尺寸圖片 ↗

03 / Filter library

讓濾鏡配置,
接上曝光設定

在同一個濾鏡庫查看曝光係數、傳統與數位分類、啟用狀態及光譜對應。配合曝光補償與濾鏡係數計算,依選定的放相條件設定曝光時間。

EMBERLITE Web Console — 濾鏡庫
在濾鏡庫查看傳統與數位濾鏡的曝光係數、啟用狀態及光譜對應。Web Console 實機畫面查看原尺寸圖片 ↗

從曝光,
接續放相流程

設定曝光條件

透過模式開關、旋鈕與按鈕設定時間、濾鏡及放相條件,再由實體主按鈕開始曝光,主機控制相應燈源的輸出與結束。

逐次完成試條

提供曝光補償、濾鏡係數計算與試條步進。每次曝光由操作者觸發,逐次比較不同條件。

接續四階段化學計時

啟用後,曝光完成會接續顯影、停顯、定影與水洗。各階段先等待操作者準備,再以按鍵開始倒數,並提供聲音提示與跳過操作。

回看與保存記錄

透過本地網路 Web Console 查閱放相記錄,也可匯出 CSV 留存。換槽及其他化學處理仍由操作者完成。

設備與連線

核心操作
曝光與化學計時在主機運作,以實體控制件操作。
本地網路
Web Console 透過本地 Wi-Fi,在瀏覽器中查閱記錄與配置資料。
數位燈具
光譜採樣與 RGBW 校正需搭配外部感測器及適用燈具。

Let's talk

聊聊你的暗房工作方式

想了解 EMBERLITE?歡迎告訴我們你的放大機配置與放相流程。